题目
题型:模拟题难度:来源:
已知:步骤③中发生的反应是:Fe+2AgI=FeI2+2Ag。
莫尔盐的化学式为:(NH4)2Fe (SO4)2·6H2O。
⑵步骤④中加入稀H2SO4浸洗的目的是______________。
⑶上述生产流程中,可以循环利用的物质是____________。
⑷“⑦系列操作”包含的操作名称依次为蒸发浓缩、__________、___________、洗涤、干燥。
⑸为了测定富碘卤水中碘离子的含量,可用高锰酸钾滴定法。已知高锰酸钾和碘离子的反应为:2MnO4-+10I-+16H+=2Mn2++5I2+8H2O。
填空:
① 取20.00mL富碘卤水放入__________(填仪器名称)中,将0.1 mol·L-1的酸性高锰酸钾溶液装入滴定管中,达到滴定终点的标志是________________。
② 三次滴定消耗高锰酸钾溶液的部分数据如下表,
答案
⑵除去过量的铁屑
⑶Ag
⑷冷却结晶;过滤
⑸①锥形瓶;滴入最后1滴高锰酸钾溶液,溶液恰好由无色变成浅紫色且半分钟不褪色,说明达到滴定终点
②10.60 ;0.26
核心考点
试题【日本核泄漏中最危险的是131I,较大量接触对人体有害,所以不必“谈碘色变”。131 53I在人类生活中还有着“天使”的一面,如控制剂量在医疗上有助于治疗多种甲状】;主要考察你对工业生产其他物质等知识点的理解。[详细]
举一反三
(2)“溶解”时反应的离子方程式为____________。
(3)“调节pH后过滤、洗涤Al(OH)3沉淀,证明已洗涤干净的实验操作和现象是_____________。
(4)“母液”中可回收的物质是_____________。
(5)工业上常用氢氧化铝脱水后的产物X熔融电解冶炼金属铝,则该反应的化学方程式为_______________。
BaSO4(s) + 2C(s) 2CO2(g) + BaS(s) △H2= +226.2 kJ·mol-1 ②
(1)高温焙烧时常把原料粉碎,目的是_________________________________
(2)常温下,相同浓度的Na2S和NaHS溶液中,说法正确的是:____________
A. Na2S溶液的pH比NaHS溶液pH大
B. 两溶液中含有的离子种类不同
C. 两溶液中滴入同体积同浓度的盐酸,产生气体速率相 等
D. 两溶液中加入NaOH固体,c(S2-)都增大
E. NaHS溶液中:c(Na+) > c(HS-) > c(OH-) > c(H+) > c(S2-)
(3)反应C(s) + CO2(g) 2CO(g)的△H = ___________
(4)制备BaCl2的工艺流程图 中气体A用过量NaOH溶液吸收,得到硫化钠。Na2S水解的离子方程式为:_________________
(5)实际生产中必须加入过量的炭,同时还要通入空气,目的是:________________(写出一种原因即可)。
二氧化氯(ClO2)被称作第四代***菌消毒剂。工业上用NaCl 还原NaClO3生产ClO2的工艺流程如图所示:
(2)生产中将NaClO3和NaCl按物质的量之比1:1.05的混 合水溶液加入反应器。NaCl稍过量的目的是____________。
(3)制取ClO2可用阳离子交换膜分隔的电解池电解NaClO2溶液,在阳极室加入的物质是___________,在阴极室产生的物质是________,电解的离子方程式可表示为______。
氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域有重要用途。
I.工业上有多种方法来制备氮化硅,常见的方法有:
①方法一 直接氮化法:在1300~1400℃时,高纯粉状硅与纯氮气化合,其反应方程式为__________________________。
②方法二 化学气相沉积法:在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl,与方法一相比,用此法制得的氮化硅纯度较高,其原因是__________________
③方法三 Si(NH2)4热分解法:先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体__________ (填分子式);然后使Si(NH2)4受热分解,分解后的另一种产物的分子式为_________。
Ⅱ.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下:
(1)原料B的主要成分是_____________(写名称)。
(2)写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式:_____________________。
(3)上述生产流程中电解A的水溶液时,____(填“能”或 “不能”)用Cu作为阳极材料;写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴、阳极的电极方程式:
阳极:__________________;阴极:___________________。
晶体硅可用作制芯片和太阳能电池等。下列流程图是工业上制取纯硅的一种方法。
(1)在上述生产过程中,属于置换反应的有__(填反应的代号“I~Ⅳ”)。
(2)A、B、C三种气体在上述生产过程中可循环利用的是___;在“节能减排”中作为减排目标的一种气体是___。
(3)化合物甲的用途很广,有些已应用于高、精、尖科技领域。通常可作建筑工业和造纸工业上的黏合剂。将石英砂和纯碱按一定比例混合加热至1373~1 623 K反应生成化合物甲,其化学方程式为___。
(4)利用反应Ⅲ能制得纯硅的原因是___。
(5)已知反应Ⅳ中产物的总能量比反应物的总能量低,则在密闭容器内反应Ⅳ达到平衡,改变下列 条件,气体B的物质的量增大的是___。
a.缩小容器的容积
b.降低反应体系的温度
c.加入少量NaOH固体(生成物在此温度下不分解)
d.加入少量催化性能更好的催化剂
(6)金属镍(Ni)与气体A能形成常温下为液态的Ni(A)4、利用Ni(A)4的生成与分解可以制得纯度很高的纳米镍,写出Ni( A)4在423K时分解的化学方程式___。
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