题目
题型:专项题难度:来源:
答案
核心考点
试题【电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H(298K)== -94.0kJ·mol-1 △S】;主要考察你对反应热计算等知识点的理解。[详细]
举一反三
① H2+Cl2=2HCl;
② H2+Br2=2HBr。
试利用下表中数据进行计算,等物质的量的H2分别与足量的Cl2、Br2反应,反应_____(填写反应序号)释放的能量多;由计算结果说明,HCl、HBr分子中, 更容易受热分解生成对应的两种单质________。
Si+O2SiO2的反应热△H为
B.-247 kJ/mol
C.-236 kJ/mol
D.+236 kJ/mol
B.1940 kJ/mol
C.-485 kJ/mol
D.485 kJ/mol
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