工业上用铜屑和浓硝酸为原料制取硝酸铜。在实际生产中，需把浓硝酸用等体积的水稀释。试简要回答下列问题： (1)用稀硝酸而不用浓硝酸的原因是___(2)从经济效益和 - 高中化学试题 - 超级试练试题库

题目

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工业上用铜屑和浓硝酸为原料制取硝酸铜。在实际生产中，需把浓硝酸用等体积的水稀释。试简要回答下列问题：
(1)用稀硝酸而不用浓硝酸的原因是___
(2)从经济效益和环境保护角度考虑，设计制取硝酸铜最适宜的方法，用化学方程式表示为____

答案

(1)用稀硝酸消耗原料较少，且产生污染物较少
(2)2Cu+O₂=2CuO，CuO+2HNO₃= Cu(NO₃)₂+H₂O

核心考点

试题【工业上用铜屑和浓硝酸为原料制取硝酸铜。在实际生产中，需把浓硝酸用等体积的水稀释。试简要回答下列问题： (1)用稀硝酸而不用浓硝酸的原因是___(2)从经济效益和】；主要考察你对工业生产其他物质等知识点的理解。[详细]

举一反三

工业上制备BaCl₂的工艺流程图如下图某研究小组在实验室用重晶石（主要成分BaSO₄）对工业过程进行模拟实验。

查表得：
BaSO₄(s)+4C(s)

4CO(g)+ BaS(s) △H1=+571.2kJ ·mol^-1 ①
BaSO₄(s)+2C(s)

2CO₂(g)+BaS(s) △H2 =+ 226. 2kJ·mol^-1 ②
(1)气体用过量的NaOH溶液吸收，得到硫化钠。Na₂S水解的离子方程式为_________。
(2)向BaCl₂溶液中加入AgNO₃和KBr，当两种沉淀共存时

____________． [ Ksp ( AgBr) = 5.4×10^-13 ,Ksp ( AgCl) = 2. 0×10 ^-10 ]
(3)反应C(s) +CO₂(g)

2CO( g)的△H=__________kJ·mol^-1。
(4)实际生产中必须加入过量的炭，同时还要通入空气，其目的是_________。

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铝土矿(主要成分为Al₂O₃、SiO₂、 Fe₂O₃)是提取氧化铝的原料。提取氧化铝的工艺流程如下：

(1)写出铝土矿与浓NaOH溶液反应的离子方程式：___________。
(2)写出反应Ⅱ的离子方程式：_____________；
(3)结合反应Ⅱ，判断下列微粒结合质子(H⁺)的能力最强的是_____________ （填字母序号）。
a.AlO₂^-或[Al(OH)₄]^-b.SiO₃^2-
c.CO₃^2-
(4)反应Ⅲ制取Al₂O₃的操作是：洗涤、______________。
(5)写出副产品Na₂SiO₃溶液的一种用途：_____________。

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高铁酸钾( K₂FeO₄)是一种集强氧化性、吸附、絮凝于一体的新型多功能水处理剂，生产工艺如下：

已知：
①温度较低时：2KOH+Cl₂=KCl+KClO+H₂O
②温度较高时：6KOH+3Cl₂=5 KCl+KClO₃+3H₂O
③Fe(NO₃)₃+KClO+KOH→K₂FeO₄+KNO₃+KCl+H₂O（未配平）
(1)该生产应在温度________的情况下进行（填“较高”或“较低”）；
(2)请配平反应③：
口Fe(NO₃)₃+口KClO+口KOH→口K₂FeO₄+口KNO₃+口KCl+H₂O
(3) K₂FeO₄具有强氧化性的原因为___________；
(4)在“反应液I”中加KOH固体的目的是____________；
A．为下一步反应提供反应物
B．与“反应液I”中过量的Cl₂继续反应，生成更多的KClO
C．KOH同体溶解时会放出较多的热量，有利于提高反应速率
D．使副产物KClO₃转化为KClO
(5)从“反应液Ⅱ”中分离出K₂FeO₄晶体后，可以得到的副产品有 ____（写化学式）。

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铝土矿的主要成分是Al₂O₃，还含有Fe₂O₃、SiO₂等杂质。
I．从铝土矿中提取氧化铝的流程如下图所示：

(1)试剂A是____；溶液b与试剂B反应的离子方程式为____。
(2)向溶液a中通入过量的CO₂，将得到的不溶物煅烧后也可得到Al₂O₃，该方案的缺点是____。
Ⅱ，电解熔融的氧化铝可制备金属铝
(3)电解时，阳极的电极反应方程式为____；每生产0. 324吨铝，理论上转移电子的物质的量为___mol。 ⅡI．新型陶瓷氮化铝可用以下两种方法制备：
(4)①氧化铝高温还原法:___Al₂O₃+___C+___N₂

___AlN+___CO(请配平)；
②氯化铝与氨气高温合成法：AlCl₃+NH₃

AlN+3HCl。
(5)方法②比方法①在生产上更具优势。下列说法中，正确的是______。
A．方法①中的Al₂O₃、C、N₂结构稳定，反应时破坏化学键需要消耗更多的能量
B．方法①中的Al₂O₃和C容易残留在氮化铝中
C．两种方法中氮化铝均为还原产物

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我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。由于三氯氢硅氢还原法具有一定优点，被广泛应用。其简化的工艺流程如下图所示：

(1)制备三氯氢硅的反应为：Si(s) +3 HCl(g)=SiHCl₃(g)+H₂(g) △H=-210 kJ·mol^-1。
伴随的副反应有：Si(s)+4HCl(g)=SiCl₄(g)+2H₂(g) △H=-241 kJ·mol^-1。
SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为SiCl₄(g)+H₂(g)=SiHCl₃(g)+HCl(g) △H=___________。
(2)由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式为___________。该生产工艺中可以循环使用的物质是_____________（至少写出两种）。
(3)由于SiH₄具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法。工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和同体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷．化学方程式是___________；整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为___________；整个系统还必须与氧隔绝，其原因是___________。

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