题目
题型:不详难度:来源:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷
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①写出由纯
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②整个制备过程必须严格控制无水无氧。
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(2)下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥 |
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 |
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 |
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高 |
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释 。
答案
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②
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(2)BC
(3)有白色胶状沉淀生成,反应原理为 Na2SiO3 + 2HNO3 = H2SiO3↓+ 2NaNO3
解析
试题分析:(1)①根据原子守恒即质量守恒可以写出SiHCl3与H2反应的化学方程式。
②SiHCl3和H2O剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,分析它们化合价的变化可知,
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(2)SiC和Si3N4均为原子晶体,熔点高,性质稳定,A、B正确。光导纤维的材料为SiO2,C正确。玻璃是一种玻璃态物质,无固定的熔点。盐酸不能与硅反应,而HCl在573 K以上的温度下可与硅发生反应。因此D、E都不正确。
(3)有白色胶状沉淀生成,HNO3的酸性大于硅酸,所以发生反应:Na2SiO3 + 2HNO3 = H2SiO3↓+ 2NaNO3。
核心考点
试题【请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: ①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: 】;主要考察你对碳族元素等知识点的理解。[详细]
举一反三
A.①、②和④ | B.只有② | C.②和③ | D.②和④ |
(1)“蛇纹石石棉”的氧化物形式为______________________,其中原子半径最大的元素
在周期表中的位置是______________________。
(2)Si原子的最外层的电子排布式为_____________,SiO2与NaOH溶液反应的化学方程式
为________________________________________________。
(3) SiCl4比SiO2的熔点_____(填“低”、“高”),原因是__________________________。
(4)从哪些方面不能判断Si和O的非金属性强弱 。
A.利用Si和O在周期表中的位置 |
B.SiO2与水不发生反应 |
C.Si在一定条件下与氧气反应,生成SiO2 |
D.H2SiO3的酸性比H2O的酸性强 |
①NaAlO2溶液 ②CaCl2溶液 ③NaOH溶液 ④澄清石灰水 ⑤饱和碳酸钠溶液
A.①⑤ | B.①②⑤ | C.①②④ | D.①③④⑤ |
A.水晶 | B.玛瑙 | C.石英 | D.硅芯片 |
A.硅酸钠可用于制备木材防火剂 | B.硅单质广泛用于光纤通讯 |
C.利用盐酸刻蚀石英制作艺术品 | D.水晶项链是硅酸盐制品 |
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