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题目
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(18分)近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的(HCl—H2O2)、碱性的(NH3—NH4Cl)以及传统的(HCl—FeCl3)等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下:

⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂,可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,还
  ▲     ▲   。(用离子方程式表示)。
⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为:
  ▲   
⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中,加入的试剂A的最佳选择是下列中的  ▲   (填序号)
①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛
⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是  ▲   
⑸ 碱性蚀刻液发生的化学反应是:2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O,处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是  ▲   
答案
.⑴ Fe+2Fe3+=3Fe2+、2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
⑵ Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
⑶ ③
⑷ 温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗
⑸ 促使溶液中Cu(NH3)4Cl2结晶析出
解析

核心考点
试题【(18分)近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的(HCl—H2O2)、碱性的(NH3—NH4Cl)以及传统的】;主要考察你对铁的氧化物等知识点的理解。[详细]
举一反三
(8分)工业上常用废铁屑溶于一定浓度的硫酸溶液制备绿矾( FeSO4·7H2O )。
⑴若用98% 1.84 g/cm3的浓硫酸配制生产用28%的硫酸溶液,则浓硫酸与水的体积比约为1: ▲  
⑵为测定某久置于空气的绿矾样品中Fe2+的氧化率,某同学设计如下实验:取一定量的样品溶于足量的稀硫酸中,然后加入5.00 g铁粉充分反应,收集到224 mL(标准状况)气体,剩余固体质量为3.88 g,测得反应后的溶液中Fe2+的物质的量为0.14 mol(不含Fe3+)。则该样品中Fe2+离子的氧化率为  ▲  
⑶硫酸亚铁铵[(NH4)2SO4·FeSO4·6H2O](俗称莫尔盐),较绿矾稳定,在氧化还原滴定分析中常用来配制Fe2+的标准溶液。现取0.4 g Cu2S和CuS的混合物在酸性溶液中用40 mL 0.150 mol/L KMnO4溶液处理,发生反应如下:
8MnO4+5Cu2S+44H=10Cu2+5SO2+8Mn2+22H2O
6MnO4+5CuS+28H=5Cu2+5SO2+6Mn2+14H2O
反应后煮沸溶液,赶尽SO2,剩余的KMnO4恰好与V mL 0.2 mol/L (NH4)2Fe(SO4)2溶液完全反应。已知:MnO4+Fe2+H——Mn2+Fe3++H2O(未配平)
V的取值范围为       ▲               
②若V=35,试计算混合物中CuS的质量分数。
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除去铜粉中的氧化铜,方法正确的是
A.在空气中加热B.加入足量的水,充分搅拌后过滤
C.加入足量的NaOH溶液,充分反应后过滤D.加入足量的盐酸,充分反应后过滤

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常温下,将铁片放入下列溶液中,能观察到有大量气泡产生的是
A.浓硫酸B.稀硫酸C.氢氧化钠溶液D.硫酸铜溶液

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在pH为4-5的环境中,Cu2+和Fe2+不水解,而Fe3+几乎完全水解。工业上制CuCl2是将浓盐酸用蒸汽加热到80℃左右。在慢慢加入粗氧化铜(含杂质FeO),充分搅拌使之溶解。欲除去所得CuCl2溶液中的杂质离子,下列方法中可行的是
A.加入HNO3将Fe2+氧化成Fe3+,再加水稀释至pH4-5
B.向溶液中通入Cl2,再加入CuO粉末调节至pH4-5
C.向溶液中通入Cl2,在通入NH3调节至pH4-5
D.向溶液中通入H2O2, 再加入CuO粉末调节至pH4-5

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将Fe、Cu、Fe2、Fe3和Cu2盛于同一容器中充分反应,反应后Fe有剩余,则容器中其它存在的单质或离子只能是
A.Cu、Fe3B.Fe2、Fe3C.Cu、Cu2D.Cu、Fe2

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