题目
题型:不详难度:来源:
A.在一定条件下可与NaOH溶液反应 |
B.与碳在高温下反应可制取两元素中的一种单质 |
C.熔点很高,可用作耐火材料 |
D.是酸酐,与水反应生成相应的酸 |
答案
解析
核心考点
试题【地壳中含量第一和第二的两元素形成的化合物,不具有的性质是 ( )。A.在一定条件下可与NaOH溶液反应B.与碳在高温下反应可制取两元素中的一种单质C.】;主要考察你对碳族元素等知识点的理解。[详细]
举一反三
A.氧化亚铜(Cu2O) | B.氧化钴(Co2O3) |
C.氧化铅(PbO) | D.硼砂(Na2B4O7·10H2O) |
(2)制造光学仪器的玻璃需加入的物质是______。
(3)制造蓝色玻璃需加入的物质是____________。
(4)制造红色玻璃需加入的物质是____________。
(1)若以aNa2O·bCaO·mSiO2形式表示此玻璃的组成,则a∶b∶m=____________。
(2)若要制备1 000 kg上述玻璃,需要原料各多少千克?共可产生标准状况下的CO2气体多少升?
A.传统无机非金属材料是指:光导纤维、玻璃、水泥、陶瓷等硅酸盐材料 |
B.新型无机非金属材料虽然克服了传统无机非金属材料的缺点,但强度比较差 |
C.高温结构材料具有耐高温、耐酸碱腐蚀、硬度大、耐磨损、密度小等优点 |
D.传统无机非金属材料和新型无机非金属材料的主要成分都是硅酸盐 |
(1)根据性质,推测氮化硅陶瓷的用途是________。(填序号)
A.制汽轮机 | B.制有色玻璃 |
C.制永久性模具 | D.制造柴油机 |
(3)氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强,除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应,试推测该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学方程式___________________________________。
(4)现用四氯化硅与氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为_____________________________________。
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
![](http://img.shitiku.com.cn/uploads/allimg/20200114/20200114173946-30370.png)
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____________________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是 ( )。
A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀
B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
D.光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸,振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时,需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内,这种材料是________(填字母)。
A.高温结构陶瓷 B.生物陶瓷 C.导电陶瓷
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