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题目
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室温下,下列物质不与晶体硅反应的是(  )
A.F2B.HFC.KOH溶液D.Cl2
答案
A、硅和F2在常温下发生反应:Si+2F2═SiF4,故A正确;
B、硅和HF在常温下发生反应:Si+4HF═SiF4↑+2H2↑,故B正确
C、硅和KOH溶液在常温下发生反应:Si+2OH-+H2O═SiO32-+2H2↑,故C正确;
D、硅和Cl2在高温下发生反应:Si+2Cl2
 高温 
.
 
SiCl4,室温下,不反应,故D错误;
故选D.
核心考点
试题【室温下,下列物质不与晶体硅反应的是(  )A.F2B.HFC.KOH溶液D.Cl2】;主要考察你对等知识点的理解。[详细]
举一反三
晶体硅是一种重要的非金属材料,在现代电子工业中具有非常重要的应用.工业上制备高纯硅的主要步骤如下:

魔方格

(1)下列有关硅及化合物的说法,正确的是______.
A.石英的主要成分是SiO2
B.太阳能电池使用单质硅做材料,其应用有利于环保、节能
C.粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D.玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
(2)SiCl4在室温下为无色液体,易挥发,粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质,通过“操作A”提纯得到纯SiCl4,操作A的名称是______.
(3)整个制备过程必须严格控制无水无氧.H2还原SiCl4过程中发生的反应是:______在该过程中若有O2混入,可能引起的后果是______.
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硅和硅的化合物在现代信息技术中应用广泛.其中,用于制造计算机芯片的材料是______,用于制造光导纤维的材料是______.
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信息高速公路的骨架是光导纤维,它的主要成分是(  )
A.SiB.SiO2C.H2SiO3D.Na2SiO3
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在无机非金属材料中,硅一直扮演着主要的角色.制备纯硅的主要步骤如下:①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HCl
 300℃ 
.
 
SiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅;
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为______.
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为:______.
(3)从基本反应类型角度分类,步骤③中发生的反应属于______.
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂是______(填写字母代号).
a.氯水     b.NaOH溶液    c.KSCN溶液    d.Na2SO3溶液.
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某氧化铝样品中含有氧化铁和二氧化硅(一种酸性氧化物)杂质,现欲制取纯净的氧化铝,某同学设计如下的实验方案.

魔方格

回答下列问题:
(1)沉淀A的化学式是______,滤液B的成分除水外是______;
(2)步骤③的离子方程式为______;
(3)在操作②中要用到的玻璃仪器有______.
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