题目
题型:不详难度:来源:
A.1:1 | B.2:1 | C.3:1 | D.4:1 |
答案
| ||
即氢气的体积为22.4L,氢气的物质的量为1mol;氧气的体积为11.2L,氧气的质量=
11.2L |
22.4L/mol |
氢气的质量为2.5g,所以氢气的平均摩尔质量=
2.5g |
1mol |
普通氢和重氢都是双原子分子,所以普通氢和重氢的原子个数之比为3:1,故选C.
核心考点
试题【电解含有重水(D2O)的普通水时,在两极共收集到气体18.5g,其体积恰好是33.6L(标准状况).这些气体中普通氢和重氢(D)的原子个数比为( )A.1:1】;主要考察你对电解池原理等知识点的理解。[详细]
举一反三
A.AgNO3CuCl2Cu(NO3)2 |
B.KBrNa2SO4CuSO4 |
C.CaCl2KOHNaNO3 |
D.HClHNO3K2SO4 |
A.0.062(6.2%)19152 |
B.0.062(6.2%)15219 |
C.0.042(4.2%)1.29.4 |
D.0.042(4.2%)9.41.2 |
(1)制取K2MnO4的MnO2是这一氧化还原反应的______剂(填“氧化”或“还原”),连续搅拌的目的是______.
(2)电解K2MnO4的浓溶液时,两极发生的电极反应式为:
阴极是______,
阳极是______,
电解总的反应方程式是______.
(2)氯气用于生产半导体材料硅的流程如下:
(3)①石英砂的主要成分是______,在制备粗硅时,焦炭的作用是______.
②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为______.
③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式是:______.
产。下列说法中正确的是
A.氯碱工业中,X、Y均为石墨,Y附近能得到氢氧化钠 | B.铜的精炼中,X是纯铜,Y是粗铜,Z是CuSO4 | C.电镀工业中,X是待镀金属,Y是镀层金属 | D.外加电流的阴极保护法中,Y是待保护金属 |
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